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区熔法制备单晶硅的工业流程的具体步骤和图片 区熔法制备单晶硅的工业流程

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区熔法制备单晶硅的工业流程的具体步骤和图片 区熔法制备单晶硅的工业流程 区熔单晶硅的应用急用不知道能不能帮忙的。 图 FZ 法单晶硅拉晶运作原理和结构 悬浮区熔法: 主要用于提纯和生长硅单晶;其基本原理是:依靠熔体的表面张力,使熔区悬浮于多晶硅 棒与下方生长出的单晶之间,通过熔区向上移动而进行提纯和生长单晶。具有如下特点: 1

单晶硅有什么应用领域?单晶硅 dānjīngguī:硅的一种,是重要的半导体材料。 单晶硅,英文,Monocrystallinesilicon。是硅的单晶体。具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。纯度要求达到999999%,甚至达到999999999%以上。

区熔单晶是什么?区熔硅单晶(float zone silicon crystal) 用区熔法单晶生长技术制备的半导体硅材料,是重要的硅单晶产品。由于硅熔体与坩埚容器起化学作用,而且利用硅表面张力大的特点,故采用悬浮区熔法,简称FZ法或FZ单晶。 特点和应用 由于不用坩埚,避免了

硅材料的类型应用单晶硅的制作硅单晶按拉制方法不同分为无坩埚区熔(FZ)单晶与有坩埚直拉(CZ)单晶。区熔单晶不受坩埚污染,纯度较高,适于生产电阻率高于20欧·厘米的N型硅单晶(包括中子嬗变掺杂单晶)和高阻 P型硅单晶。由于含氧量低,区熔单晶机械强度较差。大

单晶硅作用?作用: 制造半导体硅器件的原料,用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等。 熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。 单晶硅的制法

悬浮区熔法在生长单晶硅时有哪些优点SiO2+2C=高温=Si+2CO↑ Si+2Cl2=点燃=SiCl4 SiCl4+2H2=高温Si+4HCl 补充: 其性质与用途:硅的性质: 结晶型的硅是暗黑蓝色的,很脆,是典型的半导体。化学性质非常稳定。在常温下,除氟化氢以外,很难与其他物质发生反应。 硅的用途: ①高纯的单

半导体是如何应用的?半导体是接近导体和绝缘体的一类材料的总称。但它为什么能用来做芯片?硅是集成电路产业的基础,半导体材料中98%是硅,半导体硅工业产品包括多晶硅、单晶硅(直拉和区熔)、外延片和非晶硅等,其中,直拉硅单晶广泛应用于集成电路和中小功率器件。区域熔单晶目前主要用于大功率半导体器件,比如整流二极管,硅可控

区熔法制备单晶硅的工业流程主要包括:预热-------熔接-------缩颈-------放肩-------正常生长-------收尾-------完成。

区熔法制备单晶硅的工业流程的具体步骤和图片急用不知道能不能帮忙的。 图 FZ 法单晶硅拉晶运作原理和结构 悬浮区熔法: 主要用于提纯和生长硅单晶;其基本原理是:依靠熔体的表面张力,使熔区悬浮于多晶硅 棒与下方生长出的单晶之间,通过熔区向上移动而进行提纯和生长单晶。具有如下特点: 1

稀土金属的提纯工业上大量使用的是工业纯稀土金属,较高纯度的稀土金属主要供测定物理化学性能之用。主要有四种提纯方法在试验室中使用,即真空熔融,真空蒸馏或升华,电迁移和区域熔炼。 稀土金属棒在区域熔炼炉中以很慢的速度(如提纯钇时为04毫米/分),进

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